硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料
更新日期：2023-10-31
点击数：162
产品参数：
此产品没有输入参数信息。
产品详情
硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度：99.5% 中文名 硅化铪 英文名 Hafnium silicide EINECS 235-640-1 分子式 HfSi2 分子量 242.62 稳定性 常温常压下稳定 标签： 硅化铪靶 HfSi 磁控溅射 硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 北京市硅化铪靶材靶材 北京市硅化铪靶材靶材厂家 
北京市 北京市[硅化铪靶材
HfSi2靶材
磁控溅射靶材]
北京市硅化铪靶材靶材厂家
硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料
同类相关信息
2023-10-31
2023-10-31
2023-10-31
2023-10-31
2023-10-31
2023-10-31