模具镀膜工艺|百乐真空-精良制造|模具镀膜

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离子真空镀膜技术的特点和用途：真空离子镀钛应用的就是PVD技术。
金属在特定环境下(压力，温度，电磁场等)与各种气体产生综合作用形成等离子体，经过加速后，等离子体涌向被镀工件表面，形成牢固的膜层。
该镀钛膜层细密均匀，结合力强，硬度高，防腐耐磨，模具镀膜，具有良好的导电性和自润滑性能，同时色泽丰富多样，因此真空镀钛不仅是提高材料使用性能的有力手段，在装饰上同样是提升档次，提高附加值不错的选择。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，模具镀膜厂家，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。
平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。
为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。
但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。
旋转磁场多用于大型或贵重靶。
如半导体膜溅射。
对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
   怎么检漏真空镀膜机？检查漏气情况是保证真空镀膜机真空度的一项检查措施，简称为检漏，模具镀膜设备，真空度高低是直接影响着镀膜效果的，所以检漏真空镀膜机是必不可少的。
一般真空室内漏气都是从室壁上的一些小孔或者部件之前的连接位细缝中产生，当抽气系统抽气后使真空室内压强下降，外部与内部的压强差使气体从压强高的外部流向压强低的真空室内，导致真空度下降。
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